Controlled Reservoir (IL)
恒压或变压等温流体储层。
类型: AcausalFoundation.IsothermalLiquid.Elements.Reservoir
Controlled Reservoir (IL) 图书馆中的路径:
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Reservoir (IL) 图书馆中的路径:
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说明
图块 Controlled Reservoir (IL) 表示等温流体的无限储层。使用该程序块可在等温流体网络中设置边界条件。储液器中的流体可以处于恒定压力下,可以是大气压力,也可以由 * 储液器压力 * 参数设置,储液器压力可以通过输入信号设置。
端口 A 与储液器入口相对应。
如果选中 受控压力,则储液器压力由端口 P 的输入标量信号控制。
如果未选中*可控压力*,则压力恒定,并分别使用*储液器压力规格*和*储液器压力*参数进行设置。
单位图标会根据 受控压力 和 储油压力规格 的值发生变化。
参数
Controlled (受控) - 在模拟过程中改变油箱压力的可能性
关
选择是否可以在模拟过程中改变油箱压力:
-
Off` - 油箱压力在模拟过程中保持不变。隐藏 P 端口。
-
开"-P 端口上的输入信号定义了在模拟过程中可以改变的油箱压力。
储油罐压力规格 - 确定储油罐压力的方法
大气压力(默认)` | 指定压力`。
确定储油层压力的方法:
-
大气压"- 使用连接到回路的*Isothermal Liquid Properties (IL)* 设备中指定的大气压。
-
指定压力"- 使用 * 储液器压力* 参数指定压力值。
依赖关系
如果 受控压力 设置为 "禁用",则启用。
储液器压力 - 储液器压力值
0.101325兆帕(默认值)。
储油罐压力。该压力在模拟过程中保持不变。
依赖关系
当 * 储液器压力规格 * 设置为 "指定压力 "时打开。